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    脉冲激光分子束外延 (Pulsed Laser MBE) 高德

    应用于半导体行业:

    半导体加工设备-镀膜设备-其他

    产品品牌

    高德

    库       存:

    100

    产       地:

    中国-北京市

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:高德

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-镀膜设备-其他

    脉冲激光分子束外延 (Pulsed Laser MBE)

     

    工作原理:

    高功率脉冲激光束聚焦在腔体并轰击用来沉积的靶材。吸收了高能量的激光,靶材会被激发,蒸发,溅射和形成等离子体。最后在存底上沉积成薄膜。这个过程可在超高真空或存在背景气体下(常用氧气)发生。

     

     

    特点:

    • 超高真空环境(
    • 6个可旋转 的PLD靶
    • 高功率准分子激光
    • 全计算机控制与数据记录
    • 多个沉积源
    • 先进的原位样品温度和膜厚监控
    • 定制的组合泵

     

     

    应用范围:

    • 氧化物半导体
    • 高Tc超导体
    • 光学晶体
    • 电光薄膜
    • 铁电和铁磁材料

     

     

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