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    氮化钛靶材TiN磁控溅射靶材

    应用于半导体行业:

    半导体加工设备-镀膜设备-其他

    产品品牌

    晶迈中科

    规格型号:

    根据客户要求定制

    库       存:

    10

    产       地:

    全国

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:晶迈中科

    型号:根据客户要求定制

    所属系列:半导体加工设备-镀膜设备-其他

     科研实验专用氮化钛靶材TiN磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
    产品介绍
           氮化钛(TiN)熔点:2950℃,密度:5.43-5.44g/cm³,莫氏硬度8-9,抗热冲击性好。其熔点比大多数过渡金属氮化物的熔点高,而密度却比大多数金属氮化物低,因此是一种很有特色的耐热材料。在高温下不与铁、铬、钙和镁等金属反应,TiN坩埚在CO与N2气氛下也不与酸性渣和碱性渣起作用,因此TiN坩埚是研究刚液与一些元素相互作用的优良容器。TiN有着诱人的金黄色、熔点高、硬度大、化学稳定性好、与金属的润湿小的结构材料、并具有较高的导电性和超导性
    ,可应用于高温结构材料和超导材料。
    产品参数
    中文名 氮化钛     化学式 TiN
    熔点 2950℃       密度 5.43g/cm3
    纯度 99.9%
    中科

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