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    ICP等离子刻蚀机 干法等离子刻蚀设备

    产品品牌

    超迈光电

    发货期限:

    90天天

    库       存:

    5

    产       地:

    中国-四川省

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    450000.00
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:超迈光电

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-刻蚀设备-反应离子刻蚀机

    反应离子刻蚀机主要用于介质薄膜干法刻蚀,包括SiO2、Si3N4、SiON、SiC等。
    1.气体种类:O2、CF4、CHF3、SF6、BCl3等

    2.基片尺寸:zui大支持8英寸,并向下兼容6、5、4、3、2英寸等以及破片

    3.射频电源     ICP电源:13.56MHz,1400W; 偏压电源:13.56MHz,800W

    4.工艺温度:10℃到80℃可控

    5.传送模式:自动Loadlock传送系统

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