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    美OAI光刻机Model 200, 800MBA, 5000, 2000

    产品品牌

    美OAI

    库       存:

    1

    产       地:

    全国

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:美OAI

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-光刻设备-其它光刻设备

     
    美OAI光刻机Model 200, 800MBA, 5000, 2000
     
    详细介绍

    美国 OAI 光刻机:
    Model  2000 手动曝光机,实验室用 ,
    Model 800MBA 双面曝光机, 实验室及小批量生产,
    Model  5000 全自动曝光机,生产型
    Model  2000 全自动边缘曝光系统,生产型


    OAI 200型光刻机是一种具有成本效益的高性能掩模对准器,采用经过行业验证的组件,使OAI成为光刻设备行业的领导者。 200型是台式面罩对准器,需要最小的洁净室空间。它为研发,或有限规模,试点生产提供了经济的替代方案。利用创新的空气轴承/真空吸盘调平系统,衬底快速平稳地平整,用于平行光掩模对准和在接触曝光期间在晶片上的均匀接触。该系统能够实现一微米分辨率和对准精度。

    对准模块具有掩模插入件组和快速更换晶片卡盘,其便于使用各种衬底和掩模,而不需要用于重新配置的特殊工具。对准模块包括X,Y和Z轴的微米。

    200型掩模对准器具有可靠的OAI紫外光源,其在近紫外或深紫外中提供准直的紫外光,使用功率从200至2000瓦的灯。双传感器,光学反馈回路连接到恒定强度控制器,以提供在所需强度的±2%内的曝光强度的控制。可以快速和容易地改变UV波长。该掩模Aligner是一种灵活,经济的解决方案,适用于任何入门级掩模对准和UV紫外光照射应用.

    OAI在MEMS和微流体装置方面的产品主要包括 : 

     

    光刻机        

                                                                                  

     

    光源

    以工作稳定,出光效率高,高均匀性和散射角小而著称。且可提供 20” 以上的大面积光源。


     

    光功率计及分析仪

    OAI光功率计以其测量精度,重复性著称。测量数据符合美国NIST标准。广泛应用于半导体光刻能量测量及控制。

     

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