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ST-1500i投影光刻机
主要技术指标：
曝光场面积：10mm×10mm
分辨力：0.8-1μm（胶厚2μm的正胶）；
套刻精度：1μm
物镜倍率：1：10
掩模尺寸:4 inch、5 inch
基片尺寸：2 inch、3 inch、4 inch、6 inch
工件台运动范围：X：150mm、 Y：150mm；
工件台运动定位精度：±0.65μm；
技术特点：
采用CCD检焦系统实现整场调平、自动逐场调焦或自动选场调焦曝光。10倍缩小投影光刻物镜成像，一次曝光面积约10mm×10mm 采用专利技术——积木错位蝇眼透镜实现均明，进口精密光栅、进口电机、进口导轨、进口丝杠实现精确工件定位和曝光拼接，可适应2英寸、3英寸、4英寸、6英寸基片。具备对准和套刻功能，操作方便、实用性强。
