网站首页
购物车
用户中心
全部产品分类
提示信息
免费咨询行业专家
服务热线
4001027270
DS-2000/14K型无掩膜光刻机
主要技术指标：
单次曝光面积：1.4mm×1mm
最大曝光基片：100mm ×100mm
对准精度：±0.8μm（半自动对准）
最大胶厚：300μm（SU8胶）
自动逐场对焦；
分辨力：1μm；
X、Y、Z、θ四自由度电动位移台
X、Y平移重复定位精度：0.65μm（3σ）
Z向运动精度：1μm
技术特点：
该机可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波长的极紫外光作为光源，用DMD数字微镜阵列替代传统掩模板，采用积木 错位蝇眼透镜实现高均
匀照明，并配备了双目双视显微镜和CCD图象对准系统（可同时使用），拼接获得大面积图形，曝光设定采用微机控制，菜单界面友好，操作简便。
