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    美Nanovea HS1000P三维表面形貌仪

    应用于半导体行业:

    半导体测试设备-表面形貌测试-其他

    产品品牌

    美Nanovea

    库       存:

    1

    产       地:

    全国

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:美Nanovea

    型号:

    所属系列:半导体测试设备-表面形貌测试-其他

     

    美Nanovea HS1000P三维表面形貌仪
    美Nanovea HS1000三维表面形貌仪.

    产品简介
     HS1000型三维表面形貌仪是一款高速的三维形貌仪,最高扫描速度可达1m/s,采用国际领先的白光共聚焦技术,可实现对材料表面从纳米到毫米量级的粗糙度测试,具有测量精度高,速度快,重复性好的优点,该仪器可用于测量大尺寸样品或质检现场使用。
    产品特性
    采用白光共聚焦色差技术,可获得纳米级的分辨率
    测量具有非破坏性,测量速度快,精确度高
    测量范围广,可测透明、金属材料,半透明、高漫反射,低反射率、抛光、粗糙材料(金属、玻璃、木头、合成材料、光学材料、塑料、涂层、涂料、漆、纸、皮肤、头发、牙齿…)
    尤其适合测量高坡度高曲折度的材料表面
    不受样品反射率的影响
    不受环境光的影响
    测量简单,样品无需特殊处理

    Z方向,测量范围大:为27mm
    主要技术参数
    扫描范围:400mm×600mm(最大可选600mm*600mm)
    扫描步长:5nm
    扫描速度:1m/s
    Z方向测量范围:27mm
    方向测量分辨率:2nm
    产品应用
    MEMS、半导体材料、太阳能电池、医疗工程、制药、生物材料,光学元件、陶瓷和先进材料的研发

    主要用于

    --生产现场三维形貌测试的理想选择 

    --高速三维表面形貌检测

     

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