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    德国 Iplas 微波等离子化学气相沉积

    产品品牌

    德国 Iplas

    库       存:

    1

    产       地:

    全国

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    品牌:德国 Iplas

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-刻蚀设备-其它刻蚀设备

     
    德国 Iplas 微波等离子化学气相沉积

    德 Iplas 微波等离子化学气相沉积机
    详细介绍
    德国 IPLAS 微波等离子化学气相沉积技术(MPCVD), 通过等离子增加前驱体的反应速率,降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。

    MPCVD是世界公认的制备大尺寸单晶金刚石有效手段之一。德国iplas公司专利的 CYRANNUS® 等离子技术解决了传统等离子技术的局限,可以在10mbar
    到室压范围内激发高稳定度的等离子团,最大限度的减少了因气流、气压、气体成分、电压等因素波动引起的等离子体状态的变化,从而确保单晶生长的持续性,为合成大尺寸单晶金刚石提供有力保证。

    化学机理概要:

    碳氢化合物:提供沉积材料

    氢气:生成sp3

    氧:对石墨相/sp2键侵蚀

    惰性气体:缓冲气体,或生成纳米晶体。

    适用合成材料:

    大尺寸宝石级单晶钻石

    高取向度金刚石晶体

    纳米结晶金刚石

    碳纳米管/类金刚石碳(DLC)


    金刚石薄膜
    宝石级钻石
    vvs1,~1 carrat, E grade

     


    多种等离子发生器选择:
     
    频率:2.45GHz, 915MHz:
     
    功率:1-2kW, 1-3kW, 3-6kW,1-6kW,5-30kW
     
    等离子团直径:70mm, 145mm, 250mm, 400mm
     
    工作其他范围:0-1000mBar 
     
                        
    其他应用:

    MPCVD同样适用于平面基体,或曲面颗粒的其它硬质材料如Al2O3c-BN的薄膜沉积和晶体合成。德国iplas公司凭借几十年在等离子技术领域的积累,可以为用户提供高度定制的设备,满足用户不同的应用需要。
     
     
     


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