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    PVA TePla 射频等离子体刻蚀系统

    产品品牌

    PVA TePla

    规格型号:

    射频等离子体设备

    库       存:

    1000

    产       地:

    美国

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:PVA TePla

    型号:射频等离子体设备

    所属系列:半导体加工设备-刻蚀设备-其它刻蚀设备

     PVA TePla等离子体处理设备/刻蚀系统RIE/

    型号:IoN 10V

    应用:
    倒装清洗
    刻蚀钝化层
    光刻胶去除
    低温灰化
    SU-8去除
    残胶去除
    晶圆封装清洗
    晶圆表面预处理
    涂层 
    表面修饰

    射频功率:13.56MHz,0-600W(可选0-300W,0-1000W)

    载盘尺寸:13‘’(12寸晶圆),9‘’(8寸晶圆)
    腔体体积:约7L
    工艺气体:标配2路,可扩展至4路。
    气体种类:O2,CF4,Ar,C4F8,N2,CH4,N2O,N2,Air等
    腔体材质:铝(可选不锈钢)
    配备自动压力控制系统

    选配:
    温控盘(0-80度,或50-200度)

     
    认证: 
    CE Certified 
    EN 61010 
    EN 61326 

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