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    等离子刻蚀设备 牛津PlasmaPro100 Polaris 高端刻蚀工艺

    产品品牌

    牛津仪器

    库       存:

    20

    产       地:

    中国-北京市

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:牛津仪器

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-刻蚀设备-高密度等离子体刻蚀机

    等离子刻蚀设备 牛津PlasmaPro100 Polaris 高端刻蚀工艺

    牛津仪器专业为中国企业、科研单位打造等离子刻蚀设备,可实现碳化硅深孔刻蚀工艺,深度达到
    100um以上

    精湛的精密刻蚀工艺 ,超过百家企业,科研单位,选择我们量身定制设备,欢迎来电咨询:010-57168280 赵小姐

    PlasmaPro100 Polaris
    1.深孔碳化硅刻蚀工艺的关键因素
    2.深孔碳化硅刻蚀工艺的关键技术开发与成果
    3.达成深孔碳化硅刻蚀:设备需具有的关键条件
    4.Polaris具体设计的特点
    5.可操作在低功率低偏压之起辉模式
    6.单晶片夹具解决方案
    7.Hardware Components-最在化抽气链结
    8.从硬件设计与工艺角度,总结Polaris的优异性能










    更多详情请致电:010-56608810












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    qingqingyuan  2017-06-29

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